ICP光譜儀是由高頻電流經(jīng)感應(yīng)線(xiàn)圈產(chǎn)生高頻電磁場(chǎng)，使工作氣體（Ar）電離形成火焰狀放電高溫等離子體，等離子體的高溫度10000K。試樣溶液通過(guò)進(jìn)樣毛細(xì)管經(jīng)蠕動(dòng)泵作用進(jìn)入霧化器霧化形成氣溶膠，由載氣引入高溫等離子體，進(jìn)行蒸發(fā)、原子化、激發(fā)、電離，并產(chǎn)生輻射，光源經(jīng)過(guò)采光管進(jìn)入狹縫、反光鏡、棱鏡、中階梯光柵、準(zhǔn)直鏡形成二維光譜，譜線(xiàn)以光斑形式落在CID檢測(cè)器上，每個(gè)光斑覆蓋幾個(gè)像素，光譜儀通過(guò)測(cè)量落在像素上的光量子數(shù)來(lái)測(cè)量元素濃度。光量子數(shù)信號(hào)通過(guò)電路轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號(hào)通過(guò)電腦顯示和打印機(jī)打印出結(jié)果。
ICP光譜儀在實(shí)際操作時(shí)怎么樣編輯分析方法？
首先新建方法，點(diǎn)擊桌面快捷圖標(biāo)TEVA→輸入用戶(hù)名：Admin，Ok，點(diǎn)擊應(yīng)用欄中“分析”出現(xiàn)方法列表（后使用的方法顯示在前面），不選擇其中的方法點(diǎn)擊取消。
進(jìn)入分析界面后，點(diǎn)擊任務(wù)欄中“方法”下拉菜單，選擇“新建”，或者點(diǎn)擊圖標(biāo)欄第二組一個(gè)“新建方法”圖標(biāo)，進(jìn)行新方法編輯。
1.選擇元素及譜線(xiàn)
點(diǎn)擊元素變成綠色，并出現(xiàn)譜線(xiàn)列表（列表顯示譜線(xiàn)（級(jí)次）、相對(duì)強(qiáng)度、狀態(tài)），點(diǎn)擊譜線(xiàn)可以看到干擾元素及譜線(xiàn)，雙擊該譜線(xiàn)即可選定，此時(shí)，該譜線(xiàn)前會(huì)出現(xiàn)藍(lán)色“√”，點(diǎn)擊“確定”完成譜線(xiàn)選擇。建議初建方法時(shí)多選擇幾條譜線(xiàn)進(jìn)行比較。
2.設(shè)置參數(shù)
點(diǎn)擊左下角“方法”，在第二項(xiàng)“分析參數(shù)”中設(shè)置測(cè)定重復(fù)次數(shù)、樣品沖洗時(shí)間、等離子觀(guān)測(cè)、積分時(shí)間等參數(shù)。
?、僦貜?fù)次數(shù)、樣品沖洗時(shí)間和積分時(shí)間均可改變
?、诘入x子觀(guān)測(cè)一般選擇水平觀(guān)測(cè)
水平觀(guān)測(cè)-短波、長(zhǎng)波都是水平觀(guān)測(cè)；
垂直觀(guān)測(cè)-短波、長(zhǎng)波都是垂直觀(guān)測(cè)；
自動(dòng)-短波水平觀(guān)測(cè)，長(zhǎng)波垂直觀(guān)測(cè)；
譜線(xiàn)選擇-對(duì)同一元素中不同譜線(xiàn)設(shè)置不同觀(guān)測(cè)方式。
3.設(shè)置工作曲線(xiàn)
點(diǎn)擊第九項(xiàng)“標(biāo)準(zhǔn)”，選中“高標(biāo)”刪除，依次“添加”標(biāo)準(zhǔn)，更改標(biāo)準(zhǔn)名稱(chēng)，輸入標(biāo)準(zhǔn)濃度，完成工作曲線(xiàn)設(shè)置（注：各種元素都是同一濃度）。
方法參數(shù)設(shè)置完成后點(diǎn)擊任務(wù)欄中“方法”下拉菜單選擇“保存”以保存方法。
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